:

Szerző: Asztalos Olivér

2018. október 10. 12:28

Óramű pontossággal fejleszt a TSMC

A tajvani cég friss bejelentései szerint sínen vannak a következő gyártástechnológiák.

Két pozitív hírrel szolgált kurrens fejlesztéseivel kapcsolatban a TSMC. A piacvezető bérgyártó elmondása alapján mind a második generációs 7 nanométer, mind pedig az azt követő 5 nanométer fejlesztése a tervek szerint halad. Előbbi állapotáról árulkodik, hogy a tajvani vállalat egyik meg nem nevezett partnerével (Apple?) közösen már elérte a tape-out fázisát, vagyis a chipdizájn terveit véglegesítették a mérnökök, és optimális esetben pár hónap múlva megkezdődhet a próbagyártás. Hasonlóan jól haladnak az 5 nanométer munkálatai, a tranzisztorsűrűségben lényegesen nagyobb előrelépéssel kecsegtető gyártástechnológia próbagyártását már jövő áprilisban beindítaná a TSMC.

A CLN7FF+ kódnevű második generációs 7 nanométer fejlesztése tehát a tervek szerint halad. A bérgyártó ettől körülbelül 20 százalékkal magasabb tranzisztorsűrűséget, illetve 6-12 százalékkal alacsonyabb fogyasztást ígér. Ennek egy részét a régóta halogatott EUV technológia biztosíthatja, amelyet ezzel elsőként vetne be élesben, vagyis tömegtermelésben a TSMC. Ahogy arról korábban már többször írtunk, az extrém ultraibolya fénnyel dolgozó technológia számos buktatót rejt, ezért a gyártók rendkívül óvatosan állnak a technológiához, illetve annak bevetéséhez. Ebből kifolyólag a bonyolult és költséges megoldást az első nekifutást jelentő CLN7FF+ esetében csak a gyártási folyamat egy kis részénél, pontosabban a nem kritikus rétegeknél veti be a tajvani bérgyártó, ily módon ugyanis kordában tarthatóak a költségek, illetve csökkenthető a meglehetősen magas rizikó.

wafers

A Gitlab mint DevSecOps platform (x)

Gyere el Radovan Baćović (Gitlab, Data Engineer) előadására a november 7-i DevOps Natives meetupon.

A Gitlab mint DevSecOps platform (x) Gyere el Radovan Baćović (Gitlab, Data Engineer) előadására a november 7-i DevOps Natives meetupon.

A TSMC első "igazi" EUV-s eljárása az 5nm lesz. A CLN5FF kódnevű gyártástechnológánál a TSMC szélesebb körben veti be az egyelőre gyerekcipőben járó EUV-t, friss hírek szerint az egyes chipdizájnok már akár 14 rétegét is az extrém ultraibolya fénnyel rajzolhatják meg. Ennek hála jelentős mértékben nőhet a sűrűség, az EUV-t még nélkülöző CLN7FF-hez képest akár 80 százalékkal is több tranzisztor helyezhető majd el egységnyi szilíciumon, ami egységnyi tranzisztorszámmal kalkulálva 45 százalékkal kisebb területű chipeket jelenthet. Fogyasztás, illetve a tranzisztorteljesítmény tekintetében már jóval kisebb előrelépést hozhat az eljárás, előbbinél 20, utóbbinál pedig 15 százalékos lehet a javulás - de nem egyszerre. A valós érték attól függ majd, hogy a tervezésnél melyik tulajdonságot részesítik előnyben a mérnökök.

Egekbe szökő költségek

Ahogy a TSMC néhány hónapja bejelentette, az 5 nanométeres chipek termeléséhez egy dedikált gyárkomplexumot épít. A Fab 18-ra keresztelt üzem felállítása összesen nagyjából 17 milliárd dollárt emészt majd fel. Ebből többek között nagyjából 160 000 négyzetméternyi tisztaszobát húz fel a vállalat, a komplett gyárkomplexum pedig 950 000 négyzetméteren terül majd el. Előbbi közel 60, utóbbi pedig nagyjából 120 százalékkal haladja meg a hasonló kapacitásra képes Fab 15 paramétereit. A tetemes eltérés oka, hogy a modernebb gyártástechnológiához szükséges különféle eszközök (pl. EUV levilágító) a megszokottnál jellemzően sokkal nagyobb helyigénnyel rendelkeznek.

Jelen állás szerint a TSMC már jövő áprilisban megkezdené az 5 nanométeres chipek kísérleti gyártását, a tömegtermelés pedig a Fab 18 megnyitásával, 2020 második negyedévében indulhat meg. A tervezett maximális kapacitását 2021 második felében érheti el az üzem, amit körülbelül évi 1 millió megmunkált 300 milliméteres szilíciumostyában szabott meg a TSMC. Az egyre magasabb fejlesztési költségek természetesen a partnereknél csapódnak le. Az EETAsia információi szerint egyetlen 5 nanométeres chipdizájn (tehát egyetlen chiptípus) gyártásra való előkészítése 200-250 millió dollárra rúg majd, ami számottevőn több a 10 és 7 nanométeres fejlesztésekhez szükséges, nagyjából 150 millió dolláros összegnél. Ennek fényében várhatóan egyre kevesebb partner, egyre lassabban fog átállni az új csúcskategóriás gyártástechnológiákra.

Az üzemeltetői szakmát számos nagyon erős hatás érte az elmúlt években. A történet pedig messze nem csak a cloudról szól, hiszen az on-prem világ is megváltozott.

a címlapról