2 milliárd dolláros 0,07 mikronos technológiával ellátott chipgyárat épít az Intel

[EBN] Az Intel szerdán megerősítette azokat a híreket, melyek szerint építési enghedélyért folyamodott volna a Hillsboroban (OR, USA) felépítendő új kísérleti chipgyár ügyében. A 2 milliárd dolláros költségvetéssel épülő üzem a tervek szerint képes lesz 0,07 mikronos csíkszélességű áramkörök gyártására.

Az Intel szóvivője szerint amennyiben megkapják a szükséges engedélyeket, még ebben az évben elkezdik az alapvető környezetrendezési és talajmunkálatokat. A D1D nevű gyár építése 2002-ben kezdődik majd és 2003 végén fejeződik be. Az Intel szerint a pontos ütemezés a piaci kondícióktól függ, amelyeket még ebben az évben megvizsgálnak.

Az üzemben eleinte 0,10 mikronos csíkszélességgel folyik majd a félvezetőgyártás, és egy eddig meg nem nevezett időpontban állnak át 0,07 mikronra. A D1D kísérleti üzem a közelben található D1C gyárat egészíti ki, amely jelenleg 0,13 mikronos csíkszélességű alkatrészeket gyárt.